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Geschlossenes Feld unausgeglichenes Magnetron-Spritzensystem, CER bestätigte PVD Ion Plating Machine

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Geschlossenes Feld unausgeglichenes Magnetron-Spritzensystem, CER bestätigte PVD Ion Plating Machine
Eigenschaften Galerie Produkt-Beschreibung Fordern Sie ein Zitat
Eigenschaften
Technische Daten
Technologie: Pulsiertes geschlossenes Feld brachte das Magnetron-Spritzen aus dem Gleichgewicht
Ziele: Ta, Ni, Cr, Ti, Au, AG, SS, Cu, Zr, Al etc.
Garantie: 12 Monate, CER bestätigt
Beschichtung: PVD-Maschine, Vakuumbeschichtung
Kundendienst erbracht: Ingenieure verfügbar Maschinerie, Instandhaltungsservice, Installation übersee instandhalten, beauft
Anwendung: Industrielle enorme Produktion, Labor-R&D
Fabrik-Standort: Shanghai-Stadt, China
Weltweiter Service: Polen - Europa; Der Iran West-Asien u. Mittlere Osten, die Türkei, Indien, Mexiko Südamerika
Weltweiter Service: Polen - Europa; Der Iran West-Asien u. Mittlere Osten, die Türkei, Indien, Mexiko Südamerika
Trainings-Service: Rechneroperation, Wartung, Beschichtungsverfahren Rezepte, Programm
Garantie: Begrenzte Garantie 1-jährig für freies, ganzes Leben für Maschine
SOEM U. ODM: verfügbar, stützen wir maßgeschneiderten Entwurf und Herstellung
Markieren:

magnetron sputtering equipment

,

vacuum deposition equipment

Grundinformation
Herkunftsort: China
Markenname: ROYAL
Zertifizierung: CE
Modellnummer: RTSP1000
Zahlung und Versand AGB
Verpackung Informationen: Exportieren Sie Standard, in den neuen Kästen/in Kartonen, in passend sind für Langstreckenozean/Luf
Lieferzeit: 10~12 Wochen
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 10 Sets pro Monat
Produkt-Beschreibung

 

Magnetronspritzenabsetzungssystem des geschlossenen Feldes unausgeglichenes, unausgeglichenes Magnetron, das Ion Plating spritzt

 

 

 

Unausgeglichene und geschlossene Feldmagnetronprozesse haben alle Vorteile von planaren Magnetrons. Zusätzliche Vorteile und Nachteile sind:

  • Zusätzliche Ionenbombardierung mit dem Ergebnis der dichten, anhaftenden Filme
  • Ionenvorlage und Substratreinigung möglich
  • Verbessertes tribologisches, Abnutzung und korrosionsbeständige Filme
  • Zugänglich den mehrschichtigen, des Superlattice, nanolaminant und des nanocomposite Filmen
  • Schlechterer Materialverbrauch
  • Komplexere Kathodenkonfiguration/-ausgabe

Unausgeglichenes und geschlossenes Feldmagnetron, welches die revolutionierten Eigenschaften erreichbar durch Magnetronspritzenprozesse spritzt. Wie erfolgreich mit dem verbesserten tribologischen Dünnfilm, Korrosionsbeständigkeit und optischen Eigenschaften als diese Technologie, waren Verbesserungen in der Magnetrontechnologie hatten angefangen gerade. Folgendes Blog, das wir auf Anwendungen des drehenden und zylinderförmigen Dünnfilms der Magnetronprozesse und -c$resultierens uns bewegen.

                            --- Über Artikel von P E T E R       M EIN R T I N

 

Königliche Technologie entwickelte hohen Ertrag und hohe Zielnutzungsspritzenkathoden, besonders für die seltenen und teuren spritzenden Metalle:  Au-Gold, Ta-Tantal, Filmabsetzung AG silberne Metall.   Das hohen des Einheitlichkeitsabsetzungssystem Filmes haben einige Industrien wie Elektronikteile, Komponenten der medizinischen Instrumente, die hoch Filmeinheitlichkeit erfordern, mehrfache Schichtabsetzung gedient.

 

 

 

Die Maschine RTSP1000 ist eine standardisierte Maschine, die durch königliche Technologie entwickelt wird. Umfangreich traf mit Ausschnitt/Formungswerkzeugen, Formen, medizinische Instrumente, Elektronikkomponenten, Automobilindustrien zu.

 

 

                                                  
Hauptkonfigurationen RTSP1000 und technische Parameter
MODELLRTSP1000
TECHNOLOGIESpritzendes MF-Magnetron + Ionenquellplasmareinigung
KAMMER-MATERIALEdelstahl (S304)
KAMMER-GRÖSSEΦ1000*800mm (H)
KAMMER-ARTD-Form
ROTATIONS-GESTELL U. SPANNVORRICHTUNGS-SYSTEMmax. Gewicht von 6 Satelliten: 500kgs
STROMVERSORGUNG

Menge. vom Spritzen: Neigung Kilowatt-2*24 der Stromversorgung: Versorgung 1*5KW 1*20W Ion Source Power

ABSETZUNGS-MATERIALTi/Cr/TiAl /Ta/Cu/Au/Carbon etc.
ABSETZUNGS-QUELLE2 Paare (4 Stücke) planare Spritzenkathoden +
1 linearer Ion Source
Einheitlichkeits-Bereich: ±10~15%
STEUERUNGPLC (programmierbarer Logik-Prüfer) + Touch Screen (halb-Selbstoperationsmodelle manual+ auto+)
PUMPEN-SYSTEM Dreh-Vane Pump: SV300B - 1 Satz (Leybold)
Wurzeln pumpen: WAU1001- 1 Satz (Leybold)
Halten der Pumpe: D60C- 1 Satz (Leybold)
Magnetische Suspendierungs-molekulare Pumpe - 1 Satz (Leybold)
GAS-MASSENSTROM-PRÜFER4 Kanäle, hergestellt in China, digitales Modell sieben Sternes (CS-Reihe,)
VAKUUMmessgerätModell: ZDF-X-LE, hergestellt in China: ZDF-X-LE
LINEARE IONENquelle 1-teilige Vorbehandlung, säuberndes Plasma + unterstützte Absetzung
SICHERHEITSSYSTEMZahlreiche Sicherheitsverriegelungen, zum von Betreibern und von Ausrüstung zu schützen
HEIZUNGHeizungen: 30KW. Maximum Temp.: 450℃
ABKÜHLENIndustrieller Kühler (kaltes Wasser)
ENERGIE-MAXIMUM.100KW (ca.)
DURCHSCHNITTLICHE LEISTUNGSAUFNAHME45 Kilowatt (ca.)
BRUTTOMASSET (ca.)
FUSS-DRUCK(L*W*H) 4000*4000 *3200 MILLIMETER
ENERGIE ELEKTRISCHWechselstrom 380V/3 phases/50HZ/5 Linien

 

 

Planare Spritzenabsetzung der hohen Zielnutzung:  KLICKEN Sie bitte HIER, um das Video aufzupassen
   

Geschlossenes Feld unausgeglichenes Magnetron-Spritzensystem, CER bestätigte PVD Ion Plating Machine 0   Geschlossenes Feld unausgeglichenes Magnetron-Spritzensystem, CER bestätigte PVD Ion Plating Machine 1

 

 

Linearer Ion Source Plasma Cleaning und unterstützte Absetzung: KLICKEN Sie bitte HIER, um Video aufzupassen

 

 

Geschlossenes Feld unausgeglichenes Magnetron-Spritzensystem, CER bestätigte PVD Ion Plating Machine 2

 

Treten Sie mit uns bitte für mehr Spezifikationen, königliche Technologie wird geehrt, um Ihnen beschichtende Gesamtlösungen zur Verfügung zu stellen in Verbindung.

 

 

 

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