Kupfer-Dünnfilm-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine / Nylon-Textil-Cu-Leitfilm-Beschichtungseinheit
Nylon Textil KupferMagnetron-Sputter-Vakuumbeschichter
1) Filmdickensteuerbarkeit und gute Wiederholbarkeit, kann ein zuverlässiges System der vorplattierten Dicke der Filme und des Sputterns in einer größeren Oberfläche eines gleichmäßigen Films sein;
2) Die Haftung des Films und des Substrats ist sehr gut.Einige der hohen Energie von gesputterten Atomen, um unterschiedliche Ebenen des Injektionsphänomens zu erzeugen, Pseudodiffusionsschicht auf der Substratschicht aus gesputterten Atomen und Substratatomen, die miteinander verschmolzen sind;
3) Herstellung von speziellem Material des Films, Sie können verschiedene Materialien verwenden und Hybridfilme sputtern, Verbundfilme können auch in den TiN-Imitationsgoldfilm gesputtert werden.
Nylon Textil KupferTechnische Daten des Magnetron-Sputter-Vakuumbeschichters
| Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine | ||||||
| Leistung | RTSP-700 | RTSP-900 | RTSP-1000 | RTSP-1250 | RTSP-1400 | RTSP-1600 |
| Größe der Beschichtungskammer | 700*H900mm | 900*H1100mm | 1000*H1200mm | 1250*H1350mm | 1400*H1600mm | 1600*H1800mm |
| Stromversorgungstyp | Filament-Stromversorgung, Puls-Bias-Stromversorgung, DC-Magnetron-Stromversorgung, Zwischenfrequenz-Magnetron-Stromversorgung, Hochfrequenz-Magnetron-Stromversorgung, lineare Ionisationsquelle | |||||
| Aufbau der Vakuumkammer | Vertikale Doppeltür, vertikale Vordertürstruktur, hinteres Luftauslasssystem | |||||
| Material der Vakuumkammer | Hohlraum aus hochwertigem Edelstahl | |||||
| Vakuum begrenzen | 6,0*10-4Pa | |||||
| Auspumpzeit (ohne Last) | Pumpen Sie die Atmosphäre auf 8,0*10-3>Pa ≤15 Minuten | |||||
| Vakuumerfassungssystem | Diffusionspumpe oder Molekularpumpe + Wälzkolbenpumpe + Mechanische Pumpe + Drehschieberpumpe (das spezifische Modell kann nach Kundenwunsch konfiguriert werden) | |||||
| Beschichtungsmodus | Beschichtung durch Magnetron-Sputtern | |||||
| Genre | Metallfilm, reaktiver Film, Verbundfilm, mehrschichtiger Film und Halbleiterfilm | |||||
| Magnetron-Zieltyp | Rechteckiges Magnetron-Target, zylindrisches Magnetron-Target und Zwillings-Magnetron-Targets | |||||
| Magnetron-Versorgungsleistung und Anzahl der Magnetron-Targets | Wählen Sie nach unterschiedlichen Beschichtungsverfahren und Kundenanforderungen aus | |||||
| Spannungsversorgung vorspannen | 10KW/1 Einheit | 20KW/1 Einheit | 20KW/1 Einheit | 30KW/1 Einheit | 40KW/1 Einheit | 50KW/1Einheit |
| Drehmodus des Werkstückdrehtisches | Planetenumdrehung und Autorotation, Drehzahlregelung mit variabler Frequenz (steuerbar und einstellbar) | |||||
| Prozessgas | 3- oder 4-Wege Prozessgas-Durchflussregel- und Anzeigesystem, selektives automatisches Begasungssystem | |||||
| Kühlmodus | Wasserumlaufkühlbetrieb, Kühlwasserturm oder Brauchwasserkühler oder Tiefenkühlsystem.(Bereitgestellt von Kunden) | |||||
| Kontrollmodus | Manueller/automatischer Integrationsmodus, Touchscreen-Bedienung, SPS- oder Computersteuerung | |||||
| Totale Kraft | 30KW | 35KW | 40KW | 50KW | 65KW | 80KW |
| Alarm und Schutz | Alarmieren Sie Wassermangel, Überstrom und Überspannung, offenen Stromkreis und andere anormale Zustände von Pumpen, Zielen usw. und führen Sie relevante Schutzmaßnahmen und elektrische Verriegelungsfunktionen durch | |||||
| Ausrüstungsbereich | B2m*L3m | B2.5m*L3.5m | B3m*L4m | B4m*L5m | B4.5m*L6m | B5m*L7m |
| Andere technische Parameter | Wasserdruck ≥0,2 MPa, Wassertemperatur ≤25 °C, Luftdruck: 0,5–0,8 MPa | |||||
| Bemerkungen | Die spezifische Konfiguration der Beschichtungsausrüstung kann gemäß den Prozessanforderungen der Beschichtungsprodukte entworfen werden | |||||
Bitte kontaktieren Sie uns für weitere Spezifikationen, Royal Technology fühlt sich geehrt, Ihnen komplette Beschichtungslösungen anbieten zu können.
