Kupfer-/Aluminium-/Kohlenstoff-Spritzenausrüstung, Hochvakuum-Magnetron-Spritzenabsetzungs-System
UHV Spritzenabsetzungssystem benutzt die Spritzenkathoden als die PVD-Absetzungsquellen. Es comibled immer MF spritzt und DC spritzt für indstrial PVD-Beschichtungsanwendungen. Basiert auf verschiedenen Zielen und den Anträgen der Spritzenabsetzungsgeschwindigkeit, liefert königliche Technologie cylidrical spritzt und planar spritzen Sie Kathoden, hauptsächlich, damit schnelle Absetzungsrate Beschichtungsnachfrage der industriellen Industrieproduktion zufriedenstellt.
Hochvakuum-Magnetron-Spritzenabsetzungs-System ist für Kupfer, alumunium, Plastik, Filmschichtüberzug der Metallleiterplatte leitfähiger bestimmt. Es kann Nano-Dünnfilm auf Substraten kondensieren. Ausgenommen spritzendes AG, kann es Ni, Au, AG, Al, Cr, Edelstahlziele auch niederlegen.
Es kann deposite hohe Einheitlichkeitsfilme auf verschiedenen Substraten: Plastik-panle, PC panle, Aluminiumblatt, keramische Blätter, keramisches Al2O3, AlN, Silikon bedeckt etc.
Beschichtungs-Maschinenlayout Spritzensrtsp1215
RTSP-Reihe Spritzenbeschichtungs-Ausrüstungs-Anwendungen:
1. Verfügbar auf Substraten von: Plastik-, Polymer-, Glas- und keramischeblätter, Edelstahl, Kupferblech, Aluminiumbrett etc.
2. Zu Nano-Film erzeugen mögen Sie: Zinn, Tic, TiCN, Cr, zyklische Blockprüfung, CrN, Cu, AG, Au, Ni, Al etc.
RT-SP Reihe Spritzenbeschichtungs-Ausrüstungs-Ausrüstungsbeschreibungen:
1. Robuster Entwurf, gut für begrenzten Raumraum
2. Einfacher Zugang für Instandhaltung
3. Schnelles Pumpsystem für hohen Ertrag
4. Elektrische Standardeinschließung des CERS, UL-Standard ist auch verfügbar.
5. Genaue Herstellungskunstfertigkeit
6. Stabiler Betrieb, zum von Filmproduktion der hohen Qualität zu garantieren.
Ionenquelle ist- von Gencoa-Firma, die Eigenschaften ursprünglich:
1. Optimierte Magnetfelder, zum eines eingestellten Plasmastrahls mit Standardspritzendruck zu produzieren
2. Automatisierte Regelung, damit das Gas konstanten Strom u. Spannung – Multigasautosteuerung beibehält
3. Graphitanode und -kathode, zum des Substrates vor Verschmutzung zu schützen und von langlebigen Komponenten bereitzustellen
4. Elektrische Standardisolierung Rfs auf allen Ionenquellen
5. Indirektes Abkühlen der Anode und der Kathode – schnelle Schaltung von Teilen
6. Einfache Schaltung von den Kathodenteilen, zum von mehrfachen magnetischen Fallen für Niederspannungsoperation bereitzustellen oder ein fokussierter Strahl
7. Spannung regulierte Stromversorgung mit Gasanpassungsfeedback, um den gleichen Strom jederzeit beizubehalten
Hochvakuum-Magnetron-Spritzenabsetzungs-System-technische Spezifikationen:
| MODELL | RT1215-SP |
| MATERIAL | Edelstahl (S304) |
| KAMMER-GRÖSSE | Φ1200*1500mm (H) |
| KAMMER-ART | Struktur 1-door, vertikal |
| EINZELNES PUMPEN-PAKET | Dreh-VaneVacuum-Pumpe |
| Wurzel-Vakuumpumpe | |
| Magnetische Suspendierungs-molekulare Pumpe | |
| Zweistufige DrehschaufelVakuumpumpe | |
| TECHNOLOGIE | Spritzendes MF-Magnetron, lineare Ionenquelle |
| STROMVERSORGUNG | Spritzenstromversorgung + schräge Stromversorgung + Ionenquelle |
| ABSETZUNGS-QUELLE | 4 Paare MF Spritzenkathoden + Ionenquelle + DC spritzt |
| STEUERUNG | PLC+Touch-Schirm |
| GAS | Gas-Massenstrom misst (AR, N2, C2H2, O2) Argon, Stickstoff und Ethyne, Sauerstoff |
| SICHERHEITSSYSTEM | Zahlreiche Sicherheitsverriegelungen, zum von Betreibern und von Ausrüstung zu schützen |
| ABKÜHLEN | Kühlwasser |
| SÄUBERN | Glimm-/Ionenquelle |
| ENERGIE-MAXIMUM. | 120KW |
| DURCHSCHNITTLICHE LEISTUNGSAUFNAHME | 70KW |
