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PVD+PECVD-Bedampfen-System, DLC-Filmbeschichtung durch PECVD-Prozess

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PVD+PECVD-Bedampfen-System, DLC-Filmbeschichtung durch PECVD-Prozess
Eigenschaften Galerie Produkt-Beschreibung Fordern Sie ein Zitat
Eigenschaften
Technische Daten
Kammer: Vertikale Ausrichtung, 2 Türen
Absetzungs-Quellen: Unwucht/Unwucht Geschlossenes Magnetfeld
Technik: PECVD, ausgeglichene/unausgeglichene Magentron-Sputterkathode
Anwendungen: Automobil, Halbleiter, SiC-Beschichtung, DLC-Filmabscheidung,
Film-Eigenschaften: Verschleißfestigkeit, starke Haftung, dekorative Beschichtungsfarben
Fabrik-Standort: Shanghai-Stadt, China
Weltweiter Service: Polen - Europa; Der Iran West-Asien u. Mittlere Osten, die Türkei, Indien, Mexiko Südamerika
Trainings-Service: Rechneroperation, Wartung, Beschichtungsverfahren Rezepte, Programm
Garantie: Begrenzte Garantie 1-jährig für freies, ganzes Leben für Maschine
OEM & ODM: verfügbar, stützen wir maßgeschneiderten Entwurf und Herstellung
Markieren:

vacuum coating plant

,

high vacuum coating machine

Grundinformation
Herkunftsort: Made in China
Markenname: ROYAL
Zertifizierung: CE
Modellnummer: Multi950
Zahlung und Versand AGB
Verpackung Informationen: Exportieren Sie Standard, in den neuen Kästen/in Kartonen, in passend sind für Langstreckenozean/Luf
Lieferzeit: 16 Wochen
Zahlungsbedingungen: L/C, T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 26 Sätze pro Monat
Produkt-Beschreibung

Königliche Technologie Multi950
——PVD + PECVD-Vakuumabscheidungsmaschine

Die Multi950-Maschine ist ein kundenspezifisches Vakuumbeschichtungssystem mit mehreren Funktionen für Forschung und Entwicklung.

Nach intensivem Austausch mit dem Team der Shanghai University unter der Leitung von Professor Chen bestätigten wir schließlich das Design und die Konfiguration, um ihre F&E-Anwendungen zu erfüllen.Dieses System ist in der Lage, transparente DLC-Filme mit dem PECVD-Prozess, Hartbeschichtungen auf Werkzeugen und optische Filme mit Sputterkathode abzuscheiden.Basierend auf diesem Pilotmaschinenkonzept haben wir anschließend 3 weitere Beschichtungssysteme entwickelt:

1. Bipolarplattenbeschichtung für Brennstoffzellen-Elektrofahrzeuge – FCEV1213

2. Keramisch direkt beschichtetes Kupfer – DPC1215

3. Flexibles Sputtersystem – Vergoldungssystem für Kupferplatinen

Diese 3 Maschinen haben alle eine achteckige Kammer, die flexible und zuverlässige Leistungen in verschiedenen Anwendungen ermöglicht.Es erfüllt die Beschichtungsprozesse und erfordert viele verschiedene Metallschichten: Al, Cr, Cu, Au, Ag, Ni, Sn, SS und viele andere nicht ferromagnetische Metalle.Außerdem verbessert die Ionenquelleneinheit mit ihrer Plasmaätzleistung und dem PECVD-Prozess zur Abscheidung einiger kohlenstoffbasierter Schichten effizient die Filmhaftung auf verschiedenen Substratmaterialien.

Das Multi950 ist der Meilenstein fortschrittlicher Design-Beschichtungssysteme für Royal Technology.Dank der Studenten der Universität Shanghai und Professor Yigang Chen, der sie mit seinem kreativen und selbstlosen Engagement anführte, konnten wir seine wertvollen Informationen in eine hochmoderne Maschine umwandeln.

Im Jahr 2018 hatten wir eine weitere Projektkooperation mit Professor Chen,
die C-60-Materialabscheidung durch das induktive thermische Verdampfungsverfahren.
Herr Yimou Yang und Professor Chen waren grundlegend für diese innovativen Projekte.

PVD+PECVD-Bedampfen-System, DLC-Filmbeschichtung durch PECVD-Prozess 0

Technische Vorteile

  • Kompakter Fußabdruck
  • Modulares Standarddesign
  • Flexibel
  • Zuverlässig
  • Achteckige Kammerstruktur
  • 2-türige Struktur für einfachen Zugang
  • PVD + PECVD-Prozesse

Design-Merkmale

1. Flexibilität: Lichtbogen- und Sputterkathoden, Befestigungsflansche für Ionenquellen sind für einen flexiblen Austausch standardisiert

2. Vielseitigkeit: Es kann eine Vielzahl unedler Metalle und Legierungen abscheiden;optische Beschichtungen, harte Beschichtungen, weiche Beschichtungen, Verbundfilme und feste Schmierfilme auf metallischen und nichtmetallischen Materialsubstraten

3. Geradliniges Design: 2-türige Struktur, vordere und hintere Öffnung für einfache Wartung

PVD+PECVD-Bedampfen-System, DLC-Filmbeschichtung durch PECVD-Prozess 1

Technische Spezifikationen

Modell: Multi-950

Abscheidekammer (mm)

Durchmesser x Höhe: φ950 x 1350

Abscheidungsquellen: 1 Paar MF-Sputterkathoden

1 Paar PECVD

8 Sätze Lichtbogenkathoden

1 lineare Ionenquelle

Plasmagleichmäßigkeitszone (mm): φ650 x H750

Karussell: 6 xφ300

Leistung (KW) Vorspannung: 1 x 36

MF-Sputterleistung (KW): 1 x 36

PECVD (kW): 1 x 36

Lichtbogen (KW): 8 x 5

Ionenquelle (KW): 1 x 5

Gasregelsystem MFC: 4 + 1

Heizsystem: 18 kW, bis zu 500 ℃, mit Thermoelement-PID-Steuerung

Hochvakuumschieber: 2

Turbo-Molekularpumpe: 2 x 2000 l/s

Wurzelpumpe: 1 x 300 l/s

Drehschieberpumpe: 1 x 90 m³/h + 1 x 48 m³/h

Stellfläche (L x B x H) mm: 3000 * 4000 * 3200

Gesamtleistung (KW): 150

Layout

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Insite

Baujahr: 2015

Ort: Universität Shanghai, China

 
PVD+PECVD-Bedampfen-System, DLC-Filmbeschichtung durch PECVD-Prozess 4
 
 
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