Königliche Technologie Multi950
——PVD + PECVD-Vakuumabscheidungsmaschine
Die Multi950-Maschine ist ein kundenspezifisches Vakuumbeschichtungssystem mit mehreren Funktionen für Forschung und Entwicklung.
Nach intensivem Austausch mit dem Team der Shanghai University unter der Leitung von Professor Chen bestätigten wir schließlich das Design und die Konfiguration, um ihre F&E-Anwendungen zu erfüllen.Dieses System ist in der Lage, transparente DLC-Filme mit dem PECVD-Prozess, Hartbeschichtungen auf Werkzeugen und optische Filme mit Sputterkathode abzuscheiden.Basierend auf diesem Pilotmaschinenkonzept haben wir anschließend 3 weitere Beschichtungssysteme entwickelt:
1. Bipolarplattenbeschichtung für Brennstoffzellen-Elektrofahrzeuge – FCEV1213
2. Keramisch direkt beschichtetes Kupfer – DPC1215
3. Flexibles Sputtersystem – Vergoldungssystem für Kupferplatinen
Diese 3 Maschinen haben alle eine achteckige Kammer, die flexible und zuverlässige Leistungen in verschiedenen Anwendungen ermöglicht.Es erfüllt die Beschichtungsprozesse und erfordert viele verschiedene Metallschichten: Al, Cr, Cu, Au, Ag, Ni, Sn, SS und viele andere nicht ferromagnetische Metalle.Außerdem verbessert die Ionenquelleneinheit mit ihrer Plasmaätzleistung und dem PECVD-Prozess zur Abscheidung einiger kohlenstoffbasierter Schichten effizient die Filmhaftung auf verschiedenen Substratmaterialien.
Das Multi950 ist der Meilenstein fortschrittlicher Design-Beschichtungssysteme für Royal Technology.Dank der Studenten der Universität Shanghai und Professor Yigang Chen, der sie mit seinem kreativen und selbstlosen Engagement anführte, konnten wir seine wertvollen Informationen in eine hochmoderne Maschine umwandeln.
Im Jahr 2018 hatten wir eine weitere Projektkooperation mit Professor Chen,
die C-60-Materialabscheidung durch das induktive thermische Verdampfungsverfahren.
Herr Yimou Yang und Professor Chen waren grundlegend für diese innovativen Projekte.
Technische Vorteile
Design-Merkmale
1. Flexibilität: Lichtbogen- und Sputterkathoden, Befestigungsflansche für Ionenquellen sind für einen flexiblen Austausch standardisiert
2. Vielseitigkeit: Es kann eine Vielzahl unedler Metalle und Legierungen abscheiden;optische Beschichtungen, harte Beschichtungen, weiche Beschichtungen, Verbundfilme und feste Schmierfilme auf metallischen und nichtmetallischen Materialsubstraten
3. Geradliniges Design: 2-türige Struktur, vordere und hintere Öffnung für einfache Wartung
Technische Spezifikationen
Modell: Multi-950
Abscheidekammer (mm)
Durchmesser x Höhe: φ950 x 1350
Abscheidungsquellen: 1 Paar MF-Sputterkathoden
1 Paar PECVD
8 Sätze Lichtbogenkathoden
1 lineare Ionenquelle
Plasmagleichmäßigkeitszone (mm): φ650 x H750
Karussell: 6 xφ300
Leistung (KW) Vorspannung: 1 x 36
MF-Sputterleistung (KW): 1 x 36
PECVD (kW): 1 x 36
Lichtbogen (KW): 8 x 5
Ionenquelle (KW): 1 x 5
Gasregelsystem MFC: 4 + 1
Heizsystem: 18 kW, bis zu 500 ℃, mit Thermoelement-PID-Steuerung
Hochvakuumschieber: 2
Turbo-Molekularpumpe: 2 x 2000 l/s
Wurzelpumpe: 1 x 300 l/s
Drehschieberpumpe: 1 x 90 m³/h + 1 x 48 m³/h
Stellfläche (L x B x H) mm: 3000 * 4000 * 3200
Gesamtleistung (KW): 150
Layout
Baujahr: 2015
Ort: Universität Shanghai, China