Die Magnetron-Sputtering-Beschichtungstechnologie ermöglicht aufgrund ihrer schnellen Abscheidungsrate einen hohen Durchsatzbedarf.
Im Gegensatz zum Inline-Sputtersystem ermöglichen es die niedrigen Produktionskosten angehenden Unternehmern, das Geschäft mit einer geringen Investition zu starten.
Merkmale
Grüne Technologie, umweltfreundlicher Prozess;
PVD-Chromrad ist 80 % leichter als verchromte Räder
Es können PVD Black Chrome / PVD Bright Chrome / PVD Neo-Chrome Oberflächen erzeugt werden
Royal Technology bietet 3 Standardmaschinen an, um unterschiedliche Produktivitätsanforderungen zu erfüllen:
RTSP 900, Kapazität 1 Stück;kleine Größe, hauptsächlich für den Reparaturdienst
RTSP1400, Kapazität 4 Stück;mittlere Größe, für kleine Fertigungsmaßstäbe
RTSP1800, Kapazität 8 Stück;große Größe, für Fahrzeugräder Massenproduktion
Technische Spezifikationen
|
Beschreibung |
Für Autospiegel | Für Autoräder | ||
| RTSP1400-PLUS | RTSP900 | RTSP1400 | RTSP1800 | |
| Ziele verfügbar | Chrom, Aluminium, Edelstahl, Kupfer, Messing, Titan, Silber usw. | |||
|
Kapazität
|
max.4,86 qm |
max.Größe: 27" x 1 Einheit
|
max.Größe 25" x 4 Einheiten max.Größe: 27" x 2 Einheiten |
max.Größe 22" x 8 Einheiten
|
| Hinterlegungskammer |
Ø1400 *H1600mm
|
φ900 * H900mm
|
Ø1400 * H1600mm
|
Ø1800 * H1800mm
|
|
Durchmesser laden (max.) |
6*φ360mm | 1 Achse | 1 Achse |
4 Achsen * φ560mm
|
| Ladehöhe ( Wirksam) |
1200mm | 700mm | 1100mm | 1400mm |
| Ablagerungsquellen |
4 Sätze Zylinderspritzer 1 Satz planares Sputtern |
2 Sätze planarer Sputter W125*L850mm | 2 Sätze planarer Sputter W125*L1350mm | 2 Sätze planarer Sputter W125*L1650mm |
| Sputterleistung | max.40KW | max.30KW | max.40KW | max.60KW |
| Betriebs- und Kontrollsystem |
CE-Norm Mitsubishi PLC+ Touchscreen Betriebsprogramm mit Backup
|
|||
Was ist die Magnetron-Sputter-Technologie?
Magnetron-Sputtern ist eine weitere Form der PVD-Beschichtungstechnologie.
Plasmabeschichtung
Magnetronsputtern ist ein Plasmabeschichtungsverfahren, bei dem Sputtermaterial aufgrund des Bombardements von Ionen auf die Targetoberfläche ausgestoßen wird.Die Vakuumkammer der PVD-Beschichtungsmaschine ist mit einem Inertgas, beispielsweise Argon, gefüllt.Durch Anlegen einer Hochspannung wird eine Glimmentladung erzeugt, was zu einer Beschleunigung von Ionen auf die Targetoberfläche und einer Plasmabeschichtung führt.Die Argonionen stoßen Sputtermaterialien von der Targetoberfläche aus (Sputtern), was zu einer gesputterten Beschichtungsschicht auf den Produkten vor dem Target führt.
Reaktives Sputtern
Häufig wird ein zusätzliches Gas wie Stickstoff oder Acetylen verwendet, das mit dem ausgestoßenen Material reagiert (reaktives Sputtern).Mit dieser PVD-Beschichtungstechnik ist ein breites Spektrum an gesputterten Beschichtungen realisierbar.Die Magnetron-Sputter-Technologie ist aufgrund ihrer glatten Beschaffenheit sehr vorteilhaft für dekretive Beschichtungen (z. B. Ti, Cr, Zr und Kohlenstoffnitride).Der gleiche Vorteil macht das Magnetron-Sputtern weit verbreitet für tribologische Beschichtungen auf dem Automobilmarkt (z. B. CrN, Cr2N und verschiedene Kombinationen mit DLC-Beschichtung - Diamond Like Carbon-Beschichtung).
Magnetfelder
Magnetron-Sputtern unterscheidet sich etwas von der allgemeinen Sputter-Technologie.Der Unterschied besteht darin, dass die Magnetron-Sputter-Technologie Magnetfelder verwendet, um das Plasma vor dem Target zu halten, wodurch der Ionenbeschuss intensiviert wird.Ein hochdichtes Plasma ist das Ergebnis dieser PVD-Beschichtungstechnologie.
Die Magnetron-Sputter-Technologie zeichnet sich aus durch:
