PVD- + PECVD-Bedampfen-Maschine, Ausrüstung der Polyederstruktur PVD, mehrfache Absetzungs-Quellen
Eigenschaften der Maschine Multi950:
Kompakter Abdruck,
Standardmodularbauweise,
Flexibel,
Zuverlässig,
Oktalkammer,
2 Klappenstruktur für guten Zugang,
PVD- + PECVD-Prozesse.
Ausrüstungsbeschreibungen:
1. Flexibilität: Bogen- und Spritzenkathoden, Ionenquellbefestigungsflansche werden für flexiblen Austausch standardisiert;
2. Vielseitigkeit: Dosenpfandvielzahl von unedlen Metallen und von Legierungen; optische Beschichtungen, harte Beschichtungen, weiche Beschichtungen, Verbundfilme und feste schmierende Filme auf den metallischen und nicht-metallischen Materialsubstraten.
3. direkter Entwurf: 2 Klappenstruktur, Front u. hintere Öffnung für einfache Wartung.
Die Maschine Multi950 ist ein kundengebundenes Mehrfachverbindungsstellenfunktions-Bedampfensystem für R&d. Mit der Diskussion des helben Jahres mit dem Team Shanghai-Universität, das durch Professor Chen verbleit ist, bestätigten wir schließlich den Entwurf und die Konfigurationen, um ihr zu erfüllen R&D-Anwendungen. Dieses System ist in der Lage, transparenten DLC-Film mit PECVD-Prozess, harte Beschichtungen auf Werkzeugen und optischen Film mit Spritzenkathode niederzulegen. Basiert auf diesem VersuchsmaschinenKonzept des Entwurfes, haben wir 3 andere Anstrichsysteme nach dann entwickelt:
1. Zweipolige Platten-Beschichtung für elektrische Fahrzeuge FCEV1213 Fuel Cells,
2. keramisch verweisen Sie überzogenes Kupfer DPC1215,
3. flexibles Spritzensystem RTSP1215.
Maschine dieser 4 Modelle alle sind mit Oktalkammer, flexibel und zuverlässige Leistungen werden weitgehend in den verschiedenen Anwendungen verwendet. Sie stellt die Beschichtungsverfahren erfordert multi verschiedene Metallschichten zufrieden: Al, Cr, Cu, Au, AG, Ni, Sn, SS und viele anderen nicht--feeromagnetic Metalle;
plus die Ionenquelleinheit erhöhen Sie leistungsfähig Filmadhäsion auf verschiedenen Substratmaterialien mit seiner Plasmaradierungsleistung und, der PECVD-Prozess, um einige Kohlenstoff-ansässige Schichten niederzulegen.
Das Multi950 ist der Meilenstein von modernen EntwurfsAnstrichsystemen für königliche Technologie. Hier sind wir dankbare Dank Shanghai-Hochschulstudenten und besonders Prozess-Yigang Chen, seine kreative und selbstlose Widmung unbegrenzte Werte und spornten unser Team an.
In Jahr 2018, hatten wir eine andere Projektzusammenarbeit mit blutdruckerhöhendem Chen, die materielle Absetzung C-60 vorbei
Induktive thermische Verdampfungsmethode. Wir danken heartfully Herrn Yimou Yang und Professor Chen Führung und Anweisung in jedem innovativen Projekt.
Multi950 - technische Spezifikationen
| Beschreibung | Multi-950 |
|
Absetzungskammer (Millimeter) Tiefe x Heigh der Breiten-x |
1050 x 950 x 1350 |
|
Absetzungs-Quellen |
1 Paar MF-Spritzenkathoden |
| 1 Paar PECVD | |
| 8 Satzbogenkathoden | |
| Lineare Ionenquelle | 1 Satz |
| Plasma-Einheitlichkeits-Zone (Millimeter) | φ650 x H750 |
| Karussell | 6 x φ300 |
|
Energien (Kilowatt) |
Neigung: 1 x 36 |
| MF: 1 x 36 | |
| PECVD: 1 x36 | |
| Bogen: 8 x 5 | |
| Ionenquelle: 1 x 5 | |
| Gas-Kontrollsystem | Kraftstoffregler: 4 + 1 |
| Heizsystem | 500℃, mit thermalcouple PID-Steuerung |
| Hochvakuum-Schieber | 2 |
| Turbomolecular-Pumpe | 2 x 2000L/S |
| Wurzel-Pumpe | 1 x 300L/S |
| Drehschaufel-Pumpe | 1 x 90 m-³ /h + 1 x 48 m-³ /h |
| Abdruck (L x W x H) Millimeter | 3000 * 4000 * 3200 |
| Gesamtleistung (Kilowatt) | 150 |
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