October 11, 2022
Maschinenmodell: RT1200-FCEV
Technologie: mit PECVD + PVD-Magnetron-Sputtern Abscheidung: Si-, Cr-, Kohlenstoff-Targets, um ein unausgeglichenes geschlossenes Magnetfeld für die Abscheidung von Filmen mit hoher Dichte, hoher Gleichmäßigkeit und ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit zu erzeugen.
Baujahr: 2016
Ort: Schanghai, China
Installation & Test: 3 Tage
Inbetriebnahme & Schulung: 7 Tage
DiesRT1200-FCEVDas Hochvakuum-Magnetron-Sputtering-Abscheidungssystem ist ein maßgeschneidertes Modell, das sich auf das Modell Multi950-R&D bezieht, das wir für die Shanghai University gebaut haben.
Es ist mit einer Octal-Kammer ausgestattet, flexible und zuverlässige Leistungen werden ausgiebig in verschiedenen Anwendungen eingesetzt.Es erfüllt die Beschichtungsprozesse, die mehrere verschiedene Metallschichten erfordern: Ta, Cr, Si, Graphit, Al, Cr, Cu, Au, Ag, Ni, Sn, SS und viele andere nicht-feeromagnetische Metalle;zusammen mit der Ionenquelleneinheit, verbessert die Filmhaftung auf verschiedenen Substratmaterialien mit ihrer Plasmaätzleistung und dem PECVD-Prozess zur Abscheidung einiger kohlenstoffbasierter Schichten.
Gerätestruktur: Vertikale Ausrichtung, achteckige Struktur, 2 Türen (vordere und hintere Öffnung) für einfachen Zugang.
Ausstattungsmerkmale:
Umweltfreundliches System, keine gefährlichen Abfälle.
Vollständige Integration, modulares Design
Kommerzialisiert und standardisiert für die industrielle Massenproduktion
Äußerst effiziente Ionenquelle für starke Haftung und hohe Ionisierung.
Einfache Bedienung: Touchscreen + SPS-Steuerung, One-Touch-Bedienung
Mit der Royal Tech Software können Prozessparameter programmiert, gespeichert und reproduziert werden.
Spezielles Design des Karussellsystems für eine hochgleichmäßige Abscheidung.
Hohe Produktivität und Stabilität, 24/7 in der Woche im Einsatz.
Flexibel, passend für verschiedene Plattengrößen, für ein- oder doppelseitige Beschichtung.
Kontaktieren Sie uns bitte für weitere Informationen.
