Dünnfilm-Absetzungs-Vakuumbeschichtungs-Maschinen-/Cäsium-Jodid-Dünnfilm-thermische Verdampfungs-Beschichtungs-Ausrüstung CsI
Cäsium-Jodid-Dünnfilm-thermische Verdampfungs-Beschichtungsleistung
Ultra- hohe Ortsauflösung von Darstellungen;
Schnelle Antwort für schärfere Darstellungen;
Führende Rand-zurandbildflächen der Klasse;
Optische Absorberschichten oder Reflektorschichten;
Niedrige geduldige Röntgenstrahldosis;
Passend für CMOS- und CCD-Geräte, besonders in den medizinischen Industrien.
Dünnfilm-Absetzungs-Vakuumbeschichtungs-Maschine CsI für CMOS-CCD-Geräte ist- eine fortgeschrittene Technik, CsI auf dem Schirm zu verdunsten, um eine hohe Qualität zu geben.
Leistungsfähigkeit:
CsI-950A+ Modell ist mit dem Dreh2 gestellaufbau, der auf Generation - ein Modell CsI-950 basiert.
Doppel-Kapazität für max. Größensubstrat: 500 x400mm.
Zuverlässigkeit:
24/7 Tagesoperation ohne Unterbrechung;
Inficon-Dicken-Prüfer, zum der Dicke inline zu überwachen.
Temperaturüberwachungsgenauigkeit: ℃ ±1, Mehrstufeneinstellung, automatische TemperaturDatenaufzeichnung und Steuerung
Drehgestelle ausgerüstet mit Servomotor für hohe Genauigkeit und Stabilität.
Wiederholbarkeit u. Reproduzierbarkeit:
Durch hohes präzisiertes Parameterkontrollsystem
Automatisierte prozesskontrollierte Software und Programm,
Benutzerfreundliche Operation.
Sicherheit:
Hochvakuumpumpe: Magnetische Suspendierungs-molekulare Pumpe, mit dem Schlaggerät des Stickstoffgases, zum des Gefahrenmaterials zu vermeiden wird in der Luft herausgestellt;
Alle Elektroden werden mit SicherheitsSchutzhülle ausgerüstet
CsI-Hochvakuum-Absetzungs-System ist ausschließlich für CsI-Aufdampfen auf Szintillationsschirmen in einer extrem Hochvakuumumwelt bestimmt. Die CsI-scintillators 200~600µm in den Stärkestrecken mit hoher Einheitlichkeit der Stärke- und Helligkeitsleistung.
Absetzungskennzeichnungen des Cäsium-Jodid-(CsI):
Ultra- hohe Ortsauflösung der Darstellung;
Schnelle Antwort für schärfere Darstellung;
Führende Rand-zurandbildflächen der Klasse;
Optisch absorbieren Sie Schichten oder Reflektorschichten;
Niedrige geduldige Röntgenstrahldosis;
Anwendung: für Sicherheitskontrolle und Inspektion, Hochenergiephysikausbildung, Kern-radiaton Entdeckung und medizinische Bildgebungen: Kastenprüfung, mamography, zahnmedizinisches Inter- Mund- und panoramisch.
Substrate angewandt: TFT-Glas, Faser-Optikplatte, Formlos-Kohlenstoffplatte, Aluminiumplatte
| Beschreibung | CsI-950 |
CsI-950A+
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Absetzungskammer (Millimeter)
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φ950 x H1350 |
φ950 x H1350
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| Ladende Drehgestelle | 1 | 2 |
| Verdampfungsquellen | 2 |
2
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| Heizmethode |
Jodwolframlampe Maximum 800℃ |
Jodwolframlampe Max. 800℃ |
| Ultimated-Vakuumdruck (PA) | 8.0×10-5Pa | 8.0×10-5Pa |
| Magnetische Suspendierungs-molekulare Pumpe | 1 x 3400L/S |
1 x 3400L/S
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| Wurzeln pumpen | 1 x 490m ³ /h |
1 x 490m ³ /h
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| Dreh-Vane Pump | 1 x 300m ³ /h |
1 x 300m ³ /h
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| Absetzungs-Prüfer | Quarz-Control-X 1 |
Quarz-Control-X 1
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| Leistungsaufnahme (Kilowatt) |
Maximum ca. 62 Durchschnitt ca. 32 |
Maximum ca. 65 Durchschnitt ca. 35 |
Treten Sie mit uns bitte für mehr Spezifikationen, königliche Technologie wird geehrt, um Ihnen beschichtende Gesamtlösungen zur Verfügung zu stellen in Verbindung.
