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Einzelheiten zu den Produkten

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Magnetronspritzenbeschichtungsmaschine
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TaN Ta2O5 Optical Films Magnetron Sputtering Deposition System, Ionenstrahl Hilfsdeposition

TaN Ta2O5 Optical Films Magnetron Sputtering Deposition System, Ionenstrahl Hilfsdeposition

Markenbezeichnung: ROYAL
Modellnummer: RTSP1200
MOQ: 1 Satz
Preis: verhandelbar
Zahlungsbedingungen: L/C, T/T
Versorgungsfähigkeit: 10 Sätze pro Monat
Ausführliche Information
Herkunftsort:
Hergestellt in China
Zertifizierung:
CE
Name:
Tantal-PVD-Sputterdeposition-Maschine
Beschichtungen:
Tantal, Gold, Silber usw.
Technologie:
Pulsiertes Gleichstromsputtern
Anwendung:
Mikroelektronikindustrie, Medizingeräte, Beschichtungen an korrosionsbeständigen Teilen,
Eigenschaften der Filme:
Tantal wird in der Elektronikindustrie wegen seiner guten Erosionsbeständigkeit häufig als Schutzbes
Standort der Fabrik:
Shanghai-Stadt, China
Weltweiter Service:
Polen - Europa; Der Iran West-Asien u. Mittlere Osten, die Türkei, Indien, Mexiko Südamerika
Trainings-Service:
Rechneroperation, Wartung, Beschichtungsverfahren Rezepte, Programm
Gewährleistung:
Begrenzte Garantie 1-jährig für freies, ganzes Leben für Maschine
OEM und ODM:
verfügbar, stützen wir maßgeschneiderten Entwurf und Herstellung
Verpackung Informationen:
Exportstandard, in den neuen Kästen/in Kartonen, in passend für Langstreckenozean/Luft und inländisc
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
10 Sätze pro Monat
Hervorheben:

TaN-Magnetron-Sputter-Deposition-System

,

Ta2O5 Magnetron-Sputter-Deposition-System

Beschreibung des Produkts

Magnetron-Sputtering wird häufig zur Ablagerung feuerfester Metalle wie Tantal, Titan, Wolfram verwendet,Niob, für das eine sehr hohe Ablagerungstemperatur erforderlich wäre, und Edelmetalle: Gold und Silber und die auch zur Ablagerung von niedrigeren Schmelzpunkten von Metallen wie Kupfer, Aluminium, Nickel, Chrom usw. verwendet wird.

Tantal wird am häufigsten in der elektronischenIndustrieals Schutzbeschichtung aufgrund seiner guten Erosionsbeständigkeit.

Anwendungen von Sputter-Tantal-Dünnfolie:
1- die Mikroelektronikindustrie, da die Filme reaktiv gesprutzt werden können und somit die Widerstandsfähigkeit und der Temperaturkoeffizient des Widerstands kontrolliert werden können;

  1. Medizinische Instrumente wie Körperimplantate wegen ihrer hohen Biokompatibilität;
  2. Beschichtungen von korrosionsbeständigen Teilen wie Thermowellen, Ventilkörpern und Befestigungsmaterialien;
  3. Sputtered Tantal kann auch als eine wirksame Korrosionsbeständigkeit Barriere verwendet werden, wenn die Beschichtung kontinuierlich, defekt ist und an dem Substrat befestigt ist.

5Halbleiterindustrie, Mikroelektronik-Chips

 

Technische Vorteile

  1. Es wird ein standardisierter Wagen eingesetzt, der das einfache und sichere Be- und Entladen der Substrathalter und Werkstücke in/aus der Ablagerungskammer ermöglicht.
  2. Das System ist sicher verriegelt, um einen unsachgemäßen Betrieb oder unsichere Praktiken zu verhindern.
  3. Die Substratheizungen sind in der Mitte der Kammer montiert, PID-gesteuert Thermoelement für hohe Genauigkeit, um die Kondensationsfilm Adhäsion zu verbessern
  4. Starke Vakuumpumpenkonfigurationen mit magnetisch suspendierter molekularer Pumpe über ein mit der Kammer verbundenes Torventil; unterstützt durch die Wurzelpumpe von Leybold und eine zweistufige Rotationsschieferpumpe, mechanische Pumpe.
  5. Bei diesem System wird eine hochenergetische ionisierte Plasmaquelle eingesetzt, um die Gleichmäßigkeit und Dichte zu gewährleisten.


    TaN Ta2O5 Optical Films Magnetron Sputtering Deposition System, Ionenstrahl Hilfsdeposition 0

 

Standardisiertes Tantal-Sputter-Deposition-System von Royal Technology: RTSP1000

Hauptkonfigurationen
Modell RTSP1200
Technik

Pulsiertes Gleichstrommagnetron-Sputtern

Kathodenbogenbeschichtung (optional, bestimmt durch Beschichtungsprozess), Ionenstrahlquelle

Das Material der Kammer Edelstahl (S304)
Größe der Kammer Φ1200*1300mm (H)
KAMMERTYPE D-Form, Zylinderkammer
Rotationsrack und JIG-System Satellitenantrieb oder zentrales Antriebssystem
Stromversorgung

Gleichsputterstromversorgung: 2 bis 4 Sätze
Stromversorgung: 1 Satz

Ionenquelle: 1 Satz

Das Depositionsmaterial Ta, Ti/Cr/TiAl, Au, Ag, Cu usw.
Einlagenquelle Ebenförmige Sputterkatoden + kreisförmige Bogenkathoden
Kontrollen PLC (Programmierbarer Logikcontroller) + IPC
(Manuelle + automatische + halbautomatische Betriebsmodelle)
PUMPSYSTEM Drehkolbenpumpe: SV300B 1 Satz (Leybold)
Wurzelpumpe: WAU1001 1 Satz (Leybold)
Haltungspumpe: D60C 1 Satz (Leybold)
Magnetische Molekülpumpe:
MAG2200 2 sest (Leybold)
GAS-Massendurchflussregler 2 Kanäle: Ar und N2
VACUUM GAGE Inficon oder Leybold
Sicherheitssystem Zahlreiche Sicherheitsschließungen zum Schutz von Bedienern und Ausrüstern
Heizung Heizgeräte: 20 kW. Max. Temperatur: 450°C
Kühlung Industrielle Kühlgeräte (Kaltwasser)
Power Max. 100 kW (ca.)
Durchschnittlicher Stromverbrauch 45 KW (ca.)
Bruttogewicht T (ungefähr)
Fußabdruck (L*W*H) 4000*4000*3600 MM
Elektroenergie

AC 380V/3-Phasen/50HZ / 5-Leitung

 

 

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